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反滲透膜常用的清洗方法及藥劑配方!

返回列表日期:2019-07-19閱讀:2813



01

反滲透膜元件的污染物

在正常運(yùn)行一段時(shí)間后,反滲透膜元個(gè)會(huì)受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染,這些污染物中最常見(jiàn)的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)或生物沉積物。

污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān),污染是慢慢發(fā)展的,如果不早期采取措施,污染將會(huì)在相對(duì)短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件的性能。

定期檢測(cè)系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件發(fā)生污染的一個(gè)好方法,不同的污染物會(huì)對(duì)膜元件性能造成不同程度的損害。表中列出了常見(jiàn)污染物對(duì)膜性能的影響。



上表對(duì)應(yīng)的常見(jiàn)清洗液如下:

按現(xiàn)場(chǎng)的分析狀況可根據(jù)具體情況具體搭配。


02

污染物的去除

污染物的去除可通過(guò)化學(xué)清洗和物理沖洗來(lái)實(shí)現(xiàn),有時(shí)亦可通過(guò)改變運(yùn)行條件來(lái)實(shí)現(xiàn),作為一般的原則,當(dāng)下列情形之一發(fā)生時(shí)應(yīng)進(jìn)行清洗。

1、在正常壓力下如出水流量降至正常值的10~15%;

2、為了維持正常的出水流量,經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加了10~15%;

3、出水水質(zhì)降低10~15%。鹽透過(guò)率增加10~15%;

4、使用壓力增加 10~15%;

5、RO各段間的壓差增加明顯(也許沒(méi)有儀表來(lái)監(jiān)測(cè)這一跡象);


03

常見(jiàn)污染物及其去除方法

1、碳酸鈣垢

在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障而導(dǎo)致給水 pH 升高,那么碳酸鈣就有可能沉積出來(lái)。應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生,以防止生長(zhǎng)的晶體對(duì)膜表面產(chǎn)生損傷,如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢,可以用降低給水 pH 至 3.0 ~ 5.0 之間運(yùn)行 1 ~ 2 小時(shí)的方法去除。對(duì)沉淀時(shí)間更長(zhǎng)的碳酸鈣垢,則應(yīng)采用檸檬酸清洗液進(jìn)行循環(huán)清洗或通宵浸泡。

注:應(yīng)確保任何清洗液的 pH 不要低于 2.0 ,盃則可能會(huì) RO 膜元件造成損害,特別是在溫度較高時(shí)更應(yīng)注意,最高的 pH 不應(yīng)高于 11.0 。查使用氨水來(lái)提高 pH ,使用硫酸或鹽酸來(lái)降低 pH 值。


2、硫酸鈣垢

三聚磷酸鈉溶液(參見(jiàn)上表中三聚磷酸鈉溶液)是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。


3、金屬氧化物垢

可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法,很容易地去除沉積下來(lái)的氫氧化物 ( 例如氫氧化鐵 ) 。


4、硅垢

對(duì)于不是與金屬化物或有機(jī)物共生的硅垢,一般只有通過(guò)專門(mén)的清洗方法才能將他們?nèi)コ?/span>。


5、有機(jī)沉積物

有機(jī)沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用上表清洗液 3 去除,為了防止再繁殖,可使用殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡,一般需較長(zhǎng)時(shí)間浸泡才能有效,如反滲透裝置停用三天時(shí),最好采用消毒處理。


6、清洗液

清洗反滲透膜元件時(shí)建議采用上表所列的清洗液。確定清洗前對(duì)污染物進(jìn)行化學(xué)分析十分重要的,對(duì)分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較,可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法,應(yīng)記錄每次清洗時(shí)清洗方法及獲得的清洗效果,為在特定給水條件下,找出最佳的清洗方法提供依據(jù)。

對(duì)于無(wú)機(jī)污染物建議使用清洗液 1 。對(duì)于硫酸鈣及有機(jī)物建議使用清洗液 2。對(duì)于嚴(yán)重有機(jī)物污染建議使用清洗液 3 。所有清洗可以在最高溫度為40℃下清洗 60 分鐘,所需用品量以每 100 加侖(379 升)中加入量計(jì),配制清洗液時(shí)按比例加入藥品及清洗用水,應(yīng)采用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品水來(lái)配制溶液并混合均勻。

清洗時(shí)將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側(cè)循環(huán),此時(shí)膜元件仍裝壓力容器內(nèi)而且需要用專門(mén)的清洗裝置來(lái)完成該工作。


04

清洗反滲透膜元件的一般步驟

1、用泵將干凈、無(wú)游離氯的反滲透產(chǎn)品水從清洗箱 ( 或相應(yīng)水源 ) 打入壓力容器中并排放幾分鐘。

2、用潔凈的水在清洗箱中配制清洗液。

3、將清洗液在壓力容器中循環(huán) 1 小時(shí)或預(yù)先設(shè)定的時(shí)間,對(duì)于 8 英寸或8.5 英寸壓力容器時(shí),流速為 35~40 加侖 / 分鐘 (133~151 升 / 分鐘 ) ,對(duì)于 6 英寸壓力容器流速為 15~20 加侖 / 分鐘 (57~76 升 / 分鐘 ) ,對(duì)于 4英寸壓力容器流速為 9~10 加侖 / 分鐘 (34~38 升 / 分鐘 )

4、清洗完成以后,排凈清洗箱并進(jìn)行沖洗,然后向清洗箱中充滿干凈的水以備下一步?jīng)_洗。

5、用泵將干凈、無(wú)游離氯的水從清洗箱 ( 或相應(yīng)水源 ) 打入壓力容器中并排放幾分鐘。

6、在沖洗反滲透系統(tǒng)后,在排放閥打開(kāi)狀態(tài)下運(yùn)行反滲透系統(tǒng),直到產(chǎn)品水清潔、無(wú)泡沫或無(wú)清洗劑 ( 通常需 15~30 分鐘 ) 。


05

反滲透膜污染特征及處理方法

1、細(xì)菌污染

一般特征:脫鹽率可能降低、系統(tǒng)壓降明顯增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低;

清洗方法:pH值10,2%三聚磷酸鈉溶液,0.8%EDTA四鈉(嚴(yán)重時(shí)更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40;0.1%NaOH和0.03%SDS,pH=11.5。


2、硫酸鈣污染

一般特征:脫鹽率明顯降低、系統(tǒng)壓降稍有或適度增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍有降低;

清洗方法:pH值10,2%三聚磷酸鈉溶液,0.8%EDTA四鈉(嚴(yán)重時(shí)更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40;有時(shí)也可用pH小于10的NaOH水溶液清洗。


3、有機(jī)物沉淀

一般特征:脫鹽率可能降低、系統(tǒng)壓降逐漸升高、系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸降低;

清洗方法:pH值10,2%三聚磷酸鈉溶液,0.8%EDTA四鈉(嚴(yán)重時(shí)更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40℃。


4、氧化物/氫氧化物(鐵、鎳、銅)污染

一般特征: 脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降明顯升高、系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低

清洗方法:氨水調(diào)pH值4,2%的檸檬酸溶液,溫度40,有時(shí)也可以用pH2-3(0.5%)的鹽酸水溶液清洗。


5、無(wú)機(jī)鹽沉淀物污染

一般特征: 脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍降

清洗方法:2%檸檬酸溶液,氨水調(diào)pH值4,溫度40,也可用pH2-3(0.5%)的鹽酸水溶液清洗。


6、各種膠體(鐵、有機(jī)物及硅膠體)污染

一般特征: 脫鹽率稍有將低、系統(tǒng)壓降稍有上升、系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸減少。

清洗方法:硫酸調(diào)pH值10,0.2%三聚磷酸鈉STTP溶液,溫度40;有時(shí)也可以用pH小于10的NaOH水溶液清洗。


06

反滲透膜清洗幾種常用配方

清洗配方一

1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCl溶液,適用于鐵污染及碳酸鹽結(jié)晶污堵;

清洗配方二

0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液,適用于清洗由有機(jī)物及活性生物引起的膜組件的污染;

清洗配方三

0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液,適用于清洗由谷氨酸發(fā)酵液引起的膜組件的污染;

清洗配方四

1%甲醛溶液,適用于細(xì)菌污染的超濾;

清洗配方五

HNO3的0.5%水溶液,適用于電泳漆處理過(guò)程中磷酸鉛對(duì)膜組件造成的污堵(此清洗必須在其他常規(guī)化學(xué)清洗之后進(jìn)行。);

清洗配方六

20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA,主要用于膠體污染物造成的膜污染;

清洗配方七

9%的十二烷基苯磺酸鈉、9%的表面活性劑、0.4%的NaOH、0.15的無(wú)水碳酸鈉、11%的磷酸鈉、10%的硅酸鈉,清洗時(shí)需注意pH的控制,有些膜不適用于高pH清洗液的清洗,要慎重選擇,主要用于清洗含油廢水所造成的膜污染;

清洗配方八

3%的H3PO4、0.5%的乙二胺四乙酸二鈉、0.5%的LBOW專用清洗劑,主要用于清洗蛋白質(zhì)和油脂污染物造成的污染。

清洗配方九

20%的H2SO4,主要用于硅垢結(jié)晶造成的污染。

RO膜元件是反滲透設(shè)備系統(tǒng)中最重要的部分,其日常維護(hù)的好壞直接影響到系統(tǒng)出水水質(zhì)的好壞,這里對(duì)于反滲透膜的清洗方法加以概述,系統(tǒng)說(shuō)明反滲透膜在運(yùn)行中可能出現(xiàn)的污染物以及相對(duì)應(yīng)的清洗方法。

來(lái)源:工業(yè)水處理整理


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